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第三十六章 一炷清香思不尽,两行热泪谢深恩

“不要,我们听话的。”

小雪小声的请求,豆粒大的眼泪转啊转,桃花眼一眨就滴落下来。

小雨和小雪渐渐的融入了许道微的家庭,成为不可或缺的一份子,不然,保姆学不学习他们何必在意呢。

……

美国,纽约,

光刻机193纳米到157纳米光源波长研讨会,在几乎来自全世界芯片行业的关注之下,这场研讨会,终于拉开了帷幕……

研讨会的现场,人头攒动。就算是曼哈顿酒店最大的会议厅,将将容纳所有到场的与会者,以及那些不远万里赶到的产业界人士。

扛着摄像机的记者站在会场的最后排,只有两三架摄像头摆在那里。为了不干扰这场报告会的进行,研讨会组织委员会只给有限的媒体发放了入场资格。也正是因此,此刻站在这座报告厅里的也只有bbc、哥伦比亚电视台这些在全球范围内都具备一定影响力的媒体。

嘈杂的声音充斥着整个会场,几乎要将天花板掀翻。几乎所有人都在议论着即将进行的研讨会,倪光北院士也不例外,与相熟的专家议论了起来。

此时的光刻机以干式光刻技术为主,干式光刻是以空气作为镜头与晶圆间的介质,让光罩上的图形在晶圆上成像。

然而,从193纳米到157纳米,微缩比例不到20%,达不到摩尔定律的要求。业界虽然研发多年,却卡在镜片材料的制造周期上,始终无法达到所需的规格,光阻的透明度也很难提高。

由此造成157纳米工艺无法按著摩尔定律要求的期限内完成。依照目前的进度发展,全球芯片产业甚至摩尔定律都将陷入停滞状态。

专家们依次上台提出了自己的解决方案,倪院士认真的记录着,而就在这时,一个说话语调慢慢吞吞的声音传了过来。

“运用水作为193纳米浸润式的介质,可以超过干式的157纳米。”

“可以在原有193纳米干式光刻镜头上发展浸润式光刻,改用水代替空气作为介质,注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间,把进入光阻的光波长缩到134纳米。因而提高44%解析度的影像就可以转接到晶圆的光阻上,让刻出的电路更精细……”

倪院士惊讶的抬头注视着舞台上的华裔,短暂思考之后,认出了这个人,正是台积电的林本坚博士。

所有人如同被封上了嘴巴一样,整个会场霎时间安静了下来。就像被扔下了一颗炸弹,一双双炽热的目光不约而同地在那人身上聚焦。

等到林本坚博士说完后,大家直接抛弃157纳米议题开始讨论193纳米浸润式。

不过,台下的芯片从业者七嘴八舌的提出了自己的疑问:

“水会不会产生气泡?”

“水会不会污染设备?是不是要做防水?怎么做?”

“水遇热会膨胀,折射率会改变,怎么解决?”

倪院士一边记录,一边思考着林本坚博士的解决方案,越听他越觉得这是一个机会,一个弯道超车的机会。

解决了问题是不够的,最重要的是做量产机器的厂商愿意投入才行。配套的厂商总共在157纳米光刻机研发上投入了不下十亿美元,更有厂商建好了157纳米镜头材料的工厂。林本坚博士的理论若被采用,等于宣告其他人前功尽弃。

产品的量产很多时候并不完全取决于技术是否更先进,更在于资本的博弈,产业界绝对不可能采用林本坚博士的方案。

但是大秦科技不在乎,现在大秦科技连193nm的光刻机还没有呢。倪院士目光火热,下定决心,会议结束后就要找林本坚博士聊聊,务必把他带回大秦科技。

此时下定决心的倪院士并不知道,这不仅是一个弯道超车的机会,甚至可能是领跑世界的机会。

大概从2006年开始至今,世界上所有的高端芯片,包括我们人手一部的手机里的核心芯片,人工智能芯片,5G芯片,比特币挖矿芯片,无一不是浸润式光刻科技制造的。说没有浸润式光刻科技就没有IT的今天,毫不夸张。

如果没有大秦科技,这次会议结束后的林本坚博士将跑遍美国、RB、荷兰与德国等地,一一拜会业界,劝说他们继续投入157纳米是浪费资金浪费时间,促使阿斯麦与尼康等国际大厂转向。某些国际大厂明确表示,他们绝不用这项科技。

最终林本坚在台积电高层的支持下,开始放手一博。带领团队从130纳米、做到90纳米、65纳米、40纳米、28纳米、20纳米、和16纳米,并开始研发10纳米、7纳米、和5纳米。他的创新和推动让全球芯片工艺得以往下推进了6、7代。

……

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